Продукция
Графитизационная печь для композитных материалов C/C
Графитизационная печь для композитных материалов C/C представляет собой специализированное сверхвысокотемпературное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации композитных материалов на основе углеродного волокна, усиленного углеродной матрицей.
Описание
маркер
Назначение оборудования:
Графитизационная печь для композитных материалов C/C представляет собой специализированное сверхвысокотемпературное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации композитных материалов на основе углеродного волокна, усиленного углеродной матрицей. Основная задача установки заключается в проведении процесса высокой степени графитизации углеродной матрицы при температурах 2500–3000°C в вакууме или инертной атмосфере, одновременном устранении термических напряжений, а также повышении теплопроводности, прочности и термостойкости материала. Оборудование адаптировано для обработки сложных заготовок, таких как тормозные диски и авиационные термоструктурные компоненты.
Установка используется для высокотемпературной графитизации различных материалов, включая пироуглерод, пиролитический углерод, углерод-углеродные композиты, углеродные материалы, а также композиты на основе сверхвысокотемпературной керамики.
Ключевые особенности и области применения
Особенности:
Специальная конструкция с гибкой системой поддержки и многозонным контролем температуры, адаптированная для обработки сложных и нестандартных изделий, что снижает риск растрескивания.
Высокая герметичность и высокочистая теплоизоляция предотвращают загрязнение материала и обеспечивают его чистоту.
Полная система безопасности: защита от перегрева, разрыва водяного охлаждения, перегрузки по току и превышения давления, температура корпуса печи с водяным охлаждением ≤50°C.
Области применения:
Авиакосмическая отрасль: тормозные диски из C/C композитов, сопла двигателей, термозащитные материалы.
Полупроводниковая промышленность и фотовольтаика: тигли тепловых полей кристаллизационных печей, пресс-формы для горячего прессования, высокотемпературные крепёжные элементы.
Промышленность и научные исследования: высокопрочные углеродные / углерод-углеродные пластины, нагревательные элементы, разработка композитных материалов.
Характеристики оборудования:
1. Серия CX-GF-/-VB представляет собой вертикальную конструкцию цилиндрической формы с нижней выгрузкой материала, обеспечивающую более высокую эффективность нагрева.
2. Способ нагрева: индукционный нагрев.
3. Рабочая температура: от комнатной до 3000°C.
4. Возможность индивидуального проектирования конструкции печи и комплектации в соответствии с требованиями к производительности, включая использование единой системы управления для работы с несколькими печными модулями, что повышает коэффициент использования оборудования.
Технические параметры
| модели | CX-GF-HV40/60VB | CX-GF40/100VB | CX-GF50/100VB | CX-GF60/100VB | CX-GF60/160VB |
| Максимальная рабочая температура | 3000°C | 3000°C | 3000°C | 3000°C | 3000°C |
| Полезная площадь (мм) Диам.* L | Φ400×600 | Φ400×1000 | Φ500×1000 | Φ600×1000 | Φ600×1600 |
| Максимальный объем (л) | 75 | 125 | 196 | 282 | 452 |
| Равномерность температуры
(ΔT от 1000°C до 2200°C) |
±10°C | ||||
| Максимальная скорость повышения температуры (CEDRT)* | 15°C/мин (RT~1500°C), 10°C/мин (1500°C~2500°C), 5°C/мин (2500°C~3000°C) | ||||
| Мощность нагрева | 160 кВт | 200 кВт | 250 кВт | 300 кВт | 350 кВт |
| частота | 2000 Гц | 2000 Гц | 1500 Гц | 1500 Гц | 1500 Гц |
| Предельный вакуум (CEDRT)* | 1.0×10-5 мбар | 1.0×10-3 мбар | |||
| Дополнительный высокий вакуум (CEDRT)* | Стандартная характеристика | 5×10-5 мбар | |||
| повышение давления | 1.33×10-2 мбар/ч | ||||
| рабочая атмосфера | Высокий вакуум (опция) / Вакуум / Инертный газ (аргон или азот)
Вакуумные и высоковакуумные атмосферы допускаются только при температуре ниже 2200°C. |
||||
| электроснабжение | 3P, 380В, 50Гц/60Гц | ||||
| Давление охлаждающей воды | 1.5～2.5 бар | ||||
| Температура охлаждающей воды | ≤28 °C | ||||
связаться с нами
Сопутствующие популярные продукты
Графитизационная печь для графена
Графитизационная печь для графена — это специализированное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации прекурсоров графена (таких как оксид графена, аморфные углеродные плёнки и т.д.) с целью улучшения степени их кристалличности, электропроводности и теплопроводности.
Печь для спекания карбида кремния
Печь для спекания карбида кремния — это высокотемпературное оборудование для спекания, специально разработанное для материалов из карбида кремния.
MIM печь для дебондинга и спекания
MIM-печь для дегидратации и спекания – это оборудование, специально разработанное для технологии металлического инжекционного формования (MIM), способное осуществлять интегрированную обработку дегидратации, дегазации и спекания.
Печь для спекания со среднечастотным индукционным нагревом
Индукционные печи для спекания средней частоты используют принцип среднечастотного электромагнитного индукционного нагрева. Переменное магнитное поле генерирует вихревые токи внутри заготовки, преобразуя их в тепловую энергию.
Печь для силицирования карбида кремния
Печь для силикования карбида кремния — это высокотехнологичное термическое оборудование, специально разработанное для получения и модификации материалов из карбида кремния (SiC).
Горизонтальная графитизационная печь
Используется для высокотемпературной графитизации различных углеродных и графитовых материалов, особенно подходит для обработки блочных, пластинчатых, стержневых и трубчатых заготовок, широко применяется в процессе графитизации графеновых теплопроводящих листов.
Лабораторная пиролизная печь
Лабораторная пиролизная печь — это специализированное оборудование, используемое для мелкомасштабных/пилотных экспериментов по пиролизу.
Печь для спекания прецизионной керамики
Высокоточные печи для спекания керамики являются ключевым оборудованием для спекания полупроводниковых керамических материалов. Благодаря точному контролю таких параметров, как температура и атмосфера, они обеспечивают уплотнение керамических заготовок, получая желаемые физические и химические свойства.
Печь для беспрессового спекания
Печь для спекания без давления — это устройство для термообработки, которое уплотняет заготовки из порошков керамики, металла и композитных материалов при нормальном атмосферном давлении путем точного контроля температурного профиля и атмосферных условий.
ПОД графитизационная печь
ПОД графитизационная печь обеспечивает ключевые условия для процесса графитизации — сверхвысокую температуру (2500–3000°C) и инертную атмосферу (преимущественно аргон).
CVD печь для подложек из карбида кремния
Печь для CVD-осаждения на подложках из карбида кремния — это высокотехнологичное термическое оборудование, специально разработанное для гомоэпитаксиального выращивания полупроводниковых подложек SiC третьего поколения.
Печь для дебондинга и спекания карбидов
Печь для спекания с удалением связующего вещества из карбидов — это специализированное высокотемпературное оборудование для удаления связующих фаз, проведения высокотемпературного спекания и уплотнения при формовании порошков/заготовок из карбидов, таких как карбид вольфрама (WC), карбид титана (TiC), карбид тантала (TaC) и карбид хрома (Cr₃C₂).
Печь для спекания нитрида алюминия
Печь для спекания нитрида кремния — это высокотемпературное оборудование для спекания, специально разработанное для керамики из нитрида кремния (Si₃N₄).
Лабораторная печь для спекания
Экспериментальные печи для спекания — это высокотемпературные устройства для термообработки, специально разработанные для исследований в области материаловедения, разработки технологических процессов и подготовки образцов в небольших партиях.
Очиститель аргона
Аргоноочиститель – это специальное газоочистное оборудование для глубокого удаления следовых примесей в подаваемом аргоне.
C/C CVD печь
Эта печь, разработанная специально для получения высококачественных крупногабаритных пленок графена, использует технологию химического осаждения из газовой фазы (CVD) и поддерживает различные подложки, такие как медная и никелевая фольга, удовлетворяя потребности как научно-исследовательских, так и промышленных предприятий.