
Лабораторная высокотемпературная графитизационная печь — это специальное высокотемпературное оборудование, разработанное для научно-исследовательских работ в лабораторных условиях.
Лабораторная высокотемпературная графитизационная печь — это специальное высокотемпературное оборудование, разработанное для научно-исследовательских работ в лабораторных условиях. Она предназначена для высокотемпературной термообработки материалов (графитизация, карбонизация, спекание и т.д.) в инертной атмосфере или вакууме, с максимальной температурой до 3200°C. Основные области применения включают исследования углеродных материалов (таких как полиимид, графен, углеродное волокно, графитовое волокно, высокотемпературное спекание компонентов, порошковые металлургические материалы, карбид вольфрама), керамики (SiC, B₄C), полупроводниковых и энергоаккумулирующих материалов (анодные материалы, кремний-углеродный анод, однослойные углеродные нанотрубки, углеродные нанокаталитические слои), а также других материалов, которые могут спекаться или плавиться в углеродной среде.
Ключевыми преимуществами являются высокая точность контроля температуры, управляемость нагрева и малый объём обработки образцов. Оборудование подходит для научно-исследовательских институтов, университетских лабораторий и R&D-подразделений предприятий, занимающихся новыми материалами, и позволяет проводить исследования высокотемпературной графитизации, спекания, очистки и фазовых превращений материалов.
Модель CX-GF-Lab — это запатентованная моноблочная печь, специально разработанная для лабораторных условий. Её конструкция представляет собой вертикальную цилиндрическую зону нагрева с верхней выгрузкой материала.
Способ нагрева: индукционный нагрев, обеспечивающий сверхвысокотемпературную графитизацию в диапазоне от комнатной температуры до 3200°C. Данная установка является оптимальным решением для исследований, разработки и внедрения различных новых углеродных материалов.
1. Исследования и оптимизация углеродных материалов
(1) Пилотное производство: использование мезофазного пекка, игольчатого кокса и других прекурсоров для получения образцов искусственного графита с изучением влияния технологических параметров на свойства материалов.
(2) Исследования высокопроизводительного графита: проведение экспериментов по созданию высокочистого графита, графитового волокна и других изделий для формирования основы промышленного производства.
(3) Очистка и модификация: высокотемпературное удаление примесей из углеродных материалов для оптимизации поверхностной морфологии и механических свойств.
2. Исследования материалов для новых источников энергии
(1) Материалы электродов литий-ионных аккумуляторов: оптимизация технологий получения модифицированного природного графита, анодов из искусственного графита и др. для повышения электропроводности и циклической стабильности; также возможно высокотемпературное спекание некоторых материалов катодов.
(2) Материалы для суперконденсаторов: получение графитизированного активированного угля, электродов на основе углеродных нанотрубок для увеличения удельной площади поверхности и ёмкостных характеристик.
(3) Материалы для топливных элементов: очистка графитовых биполярных пластин, высокотемпературное спекание электродных/электролитных материалов.
3. Получение новых функциональных материалов
Включает спекание высокотемпературных конструкционных и функциональных керамик, спекание/отжиг/очистку металлических порошков, высокотемпературное получение композитных материалов (углерод/углерод, углерод/керамика и др.). Процессы могут проводиться в вакууме/инертной атмосфере для предотвращения окисления и загрязнения материалов.
4. Исследования материалов для полупроводников и электроники
Применяется для высокотемпературного отжига кремниевых пластин, спекания и очистки материалов полупроводников третьего поколения, а также для получения графитовых теплораспределительных пластин, высокотемпературного отверждения электронных паст и обработки материалов электронных компонентов.
5. Другие научно-исследовательские области
Включают разработку жаропрочных материалов для аэрокосмической отрасли, изучение высокотемпературных фазовых превращений минералов, получение высокочистых металлов, а также фундаментальные исследования высокотемпературных материалов в физике, химии и других дисциплинах.
| модели | CX-GF10/15VT | CX-GF20/30VT | CX-GF30/50VT |
| Расчетная температура | 3000°C | 3200°C | 3200°C |
| Максимальная рабочая температура | 2950°C | 3100°C | 3100°C |
| Диаметр*Высота (мм) | Φ100×150 | Φ200×300 | Φ300×500 |
| Максимальная грузоподъемность (л) | 1л | 9л | 35л |
| Равномерность температуры
(ΔT от 1000°C до 2200°C) |
≤±10°C | ≤±10°C | ≤±10°C |
| Предельная скорость повышения температуры (CEDRT)* | 100 °C/мин | 100 °C/мин | 100 °C/мин |
| Точность контроля температуры | ±1°C | ±1°C | ±1°C |
| измерение температуры | 1000~3200°C | 1000~3200°C | 1000~3200°C |
| Мощность нагрева | 60 кВт | 80 кВт | 120 кВт |
| Предельный вакуум (CEDRT)* | 1.2×10-3 мбар | 1.2×10-3 мбар | 1.2×10-3 мбар |
| Дополнительный высокий вакуум (CEDRT)* | 5×10-5 мбар | 5×10-5 мбар | 5×10-5 мбар |
| повышение давления | 6.7×10-3 мбар/ч | 6.7×10-3 мбар/ч | 6.7×10-3 мбар/ч |
| рабочая атмосфера | Высокий вакуум / Вакуум / Инертный газ Ar или N2 | Высокий вакуум / Вакуум / Инертный газ Ar или N2 | Высокий вакуум / Вакуум / Инертный газ Ar или N2 |
| Напряжение питания | Источник питания IGBT 3P, 380 В, 50 Гц/60 Гц (по заказу) | Источник питания IGBT 3P, 380 В, 50 Гц/60 Гц (по заказу) | Источник питания IGBT 3P, 380 В, 50 Гц/60 Гц (по заказу) |
| Давление охлаждающей воды | 1.5~2.5 бар | 1.5~2.5 бар | 1.5~2.5 бар |
| Температура охлаждающей воды | ≤28°C | ≤28°C | ≤28°C |
| Габаритные размеры (мм) | Д1500×Ш1300×В1800мм | Д1600*Ш1400*В1800мм | Д1900*Ш1900*В2200мм |
| Вес (кг) | 1300кг | 1500кг | 1700кг |