Продукция
Печь для окисления полупроводников
Печь для окисления использует контролируемую высокотемпературную технологию окисления для получения оксидных слоев на поверхностях материалов, удаления примесей путем окисления и проведения технологических окислительных обработок.
Описание
маркер
Обзор оборудования:
Печь для окисления использует контролируемую высокотемпературную технологию окисления для получения оксидных слоев на поверхностях материалов, удаления примесей путем окисления и проведения технологических окислительных обработок. Ее основные области применения – сценарии со строгими требованиями к характеристикам поверхности и контролю чистоты.
Основные сценарии применения
1. Полупроводниковая и микроэлектронная промышленность (основная область): Используется для термического окисления кремниевых пластин для получения изоляционных слоев SiO₂, выращивания слоев затворного оксида для полупроводниковых устройств и проведения очистки поверхности путем окисления перед металлизацией, обеспечивая изоляционные характеристики и надежность устройств, а также соответствие требованиям точного контроля температуры 1200℃+.
2. Солнечная фотоэнергетика: Проводит окислительную обработку поверхности и пассивацию кремниевых фотоэлектрических элементов для получения антиотражающих оксидных пленок, повышая эффективность поглощения света и время жизни носителей заряда; также используется для окислительной обработки и защиты от коррозии металлических каркасов фотоэлектрических модулей, повышая устойчивость к воздействию погодных условий на открытом воздухе.
3. Металлообработка и прецизионное производство: Проводит анодирование/высокотемпературное оксидирование нержавеющей стали, алюминиевых сплавов и т. д. для получения износостойких и коррозионностойких оксидных пленок; используется для модификации поверхности прецизионных механических деталей путем оксидирования, повышения твердости и износостойкости, удовлетворяя потребности в обработке прецизионных приборов и компонентов аэрокосмической отрасли.
4. Обработка керамики и стекла: Используется для предварительного оксидирования и обезжиривания керамических заготовок, а также оксидирования и полировки стеклянных поверхностей; подготовка функциональных керамических оксидных слоев для оптимизации диэлектрической и теплопроводности керамических материалов, адаптируясь к массовому производству электронной керамики и специального стекла.
5. Научные исследования и разработка новых материалов: Университеты и научно-исследовательские институты проводят исследования по оптимизации процесса оксидирования (контроль параметров атмосферы, температуры и времени) для поддержки исследований и разработок в передовых областях, таких как новые полупроводниковые материалы, функциональные оксидные пленочные материалы и высокотемпературные металлокомпозитные материалы.
| Модель | CX-OF55/140HC |
| Расчетная температура | 1400°C |
| Рабочая температура | Температура в помещении ~ 1300℃. Вакуум с отрицательным давлением или аргон, кислород, водяной пар и другие промышленные газы. |
| Рабочая атмосфера | Φ550×1400 мм (внутреннее загрузочное пространство). |
| Размеры камеры сгорания | Бронированный термоэлемент К-типа мощностью 100 кВт (диапазон температур: 0–1600℃). |
| Номинальная мощность | 1 Па. Полностью автоматическое программное регулирование температуры и ручное регулирование температуры. Тройная защита охлаждающей воды с использованием расхода, давления и температуры воды. |
| Измерение температуры | Температура в помещении ~ 1300℃. Вакуум с отрицательным давлением или аргон, кислород, водяной пар и другие промышленные газы. |
| Максимальный вакуум (CEDRT)* | Φ550×1400 мм (внутреннее загрузочное пространство). |
| Метод регулирования температуры | Бронированный термоэлемент К-типа мощностью 100 кВт (диапазон температур: 0–1600℃). |
| Полностью автоматическое программное управление | 1 Па. Полностью автоматическое программное регулирование температуры и ручное регулирование температуры. Тройная защита охлаждающей воды с использованием расхода, давления и температуры воды. |
| Ручное регулирование температуры | ≤28°C |
связаться с нами
Сопутствующие популярные продукты
Непрерывная графитизационная печь
Непрерывная графитизационная печь представляет собой ключевой тип лабораторного высокотемпературного графитизационного оборудования, адаптированного для исследований непрерывных технологических процессов.
Оборудование для очистки отходящих газов
Установки очистки газа и установки обработки отходящих газов являются ключевым оборудованием в промышленных газовых системах, обеспечивающим качество газа и экологически безопасные выбросы.
Графитизационная печь для углеродного волокна
Графитизационная печь для углеродного волокна — это специализированное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации углеродного волокна.
Графитизационная печь для композитных материалов углерод-керамических
Данная установка является ключевым оборудованием в производстве углерод-керамических композитов. Она предназначена для проведения процесса графитизации углеродных материалов в сверхвысокотемпературном диапазоне (2000–3000°C) в инертной атмосфере или вакууме, что приводит к значительному улучшению электропроводности, теплопроводности, механической прочности и окислительной стойкости материала.
Печь для спекания карбида кремния
Печь для спекания карбида кремния — это высокотемпературное оборудование для спекания, специально разработанное для материалов из карбида кремния.
ПОД печь для карбонизации
Печь для карбонизации POD — это высокотемпературное устройство для термообработки, специально разработанное для карбонизации теплопроводящих пленок.
Вертикальная графитизационная печь
Используется для высокотемпературной графитизации различных порошкообразных углеродных и графитовых материалов; цилиндрическая камера печи особенно подходит для обработки порошковых и рулонных материалов, широко применяется в процессе графитизации полиимидных (ПИ) теплопроводящих графитовых листов.
Печь для силицирования карбида кремния
Печь для силикования карбида кремния — это высокотехнологичное термическое оборудование, специально разработанное для получения и модификации материалов из карбида кремния (SiC).
Печь для дебондинга и спекания карбидов
Печь для спекания с удалением связующего вещества из карбидов — это специализированное высокотемпературное оборудование для удаления связующих фаз, проведения высокотемпературного спекания и уплотнения при формовании порошков/заготовок из карбидов, таких как карбид вольфрама (WC), карбид титана (TiC), карбид тантала (TaC) и карбид хрома (Cr₃C₂).
Пиролизная печь с удалением кокса
Печь для удаления кокса и пиролиза — это специализированное оборудование для термообработки, объединяющее высокотемпературный пиролиз и эффективное удаление кокса.
Печь для спекания со среднечастотным индукционным нагревом
Индукционные печи для спекания средней частоты используют принцип среднечастотного электромагнитного индукционного нагрева. Переменное магнитное поле генерирует вихревые токи внутри заготовки, преобразуя их в тепловую энергию.
Вакуумная пиролизная печь
Вакуумная пиролизная печь — это специализированное устройство, которое преобразует органические материалы (такие как смолы, асфальт, полимеры и т. д.) в углеродные материалы посредством высокотемпературной термообработки в бескислородной или инертной атмосфере.
Лабораторная пиролизная печь
Лабораторная пиролизная печь — это специализированное оборудование, используемое для мелкомасштабных/пилотных экспериментов по пиролизу.
ПОД графитизационная печь
ПОД графитизационная печь обеспечивает ключевые условия для процесса графитизации — сверхвысокую температуру (2500–3000°C) и инертную атмосферу (преимущественно аргон).
Графитизационная печь для композитных материалов C/C
Графитизационная печь для композитных материалов C/C представляет собой специализированное сверхвысокотемпературное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации композитных материалов на основе углеродного волокна, усиленного углеродной матрицей.
Графитизационная печь для графена
Графитизационная печь для графена — это специализированное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации прекурсоров графена (таких как оксид графена, аморфные углеродные плёнки и т.д.) с целью улучшения степени их кристалличности, электропроводности и теплопроводности.