Продукция
Вертикальная графитизационная печь
Используется для высокотемпературной графитизации различных порошкообразных углеродных и графитовых материалов; цилиндрическая камера печи особенно подходит для обработки порошковых и рулонных материалов, широко применяется в процессе графитизации полиимидных (ПИ) теплопроводящих графитовых листов.
Описание
маркер
Назначение оборудования:
Используется для высокотемпературной графитизации различных порошкообразных углеродных и графитовых материалов; цилиндрическая камера печи особенно подходит для обработки порошковых и рулонных материалов, широко применяется в процессе графитизации полиимидных (ПИ) теплопроводящих графитовых листов.
Вертикальная высокотемпературная графитизационная печь — это высокотемпературное оборудование с вертикальной компоновкой, в основном используемое для графитизации различных углеродных материалов. Под воздействием высоких температур атомы углерода перестраиваются в упорядоченную кристаллическую графитовую структуру, что значительно улучшает эксплуатационные характеристики материала.
Основной принцип работы
Основной принцип работы вертикальной высокотемпературной графитизационной печи заключается в генерации и поддержании высокой температуры с помощью высокоэффективного метода нагрева, одновременного проведения процесса графитизации в строго контролируемой атмосфере.
Процесс графитизации: Под воздействием высокой температуры аморфный или микрокристаллический углерод в структуре материала постепенно преобразуется в высокоупорядоченную графитовую кристаллическую структуру. Одновременно происходит удаление примесей, оптимизация микроструктуры и улучшение эксплуатационных характеристик материала.
Области применения
1.Сфера материалов для новых источников энергии: в первую очередь применяется для пилотной высокотемпературной графитизации искусственного графитового анода и кремний-углеродных композитных анодов литиевых батарей, повышая электропроводность и циклическую стабильность материала; также может использоваться для экспериментов по очистке сырья для компонентов теплового поля печей выращивания монокристаллов в фотовольтаике (высокочистых графитовых тиглей, направляющих цилиндров), обеспечивая термостойкость и низкое тепловое расширение компонентов.
2.Сфера авиакосмических материалов: поддерживает разработку и изготовление высокотемпературных компонентов из углерод-углеродных композитов (C/C) (сопел двигателей, термозащитных слоёв космических аппаратов); вертикальная конструкция способствует вертикально ориентированному спеканию материала, повышая структурную плотность и стойкость к абляции; также используется для экспериментов по графитизационной модификации высокопроизводительного углеродного волокна, способствуя оптимизации характеристик углеродного волокна для высокотехнологичных авиакосмических применений.
3.Сфера высокотехнологичного оборудования и электронных материалов: применяется для высокотемпературной обработки высокочистого графита для компонентов теплового поля печей выращивания монокристаллов полупроводников, а также для экспериментов по высокотемпературному отверждению высокотеплопроводящих графитовых плёнок и электронных паст; также может быть адаптирована для вертикального спекания таких материалов, как твёрдые сплавы и прецизионная керамика, обеспечивая равномерность нагрева образцов.
4.Сфера исследований углеродных материалов: проведение пилотных экспериментов по получению высокочистого графита из прекурсоров, таких как игольчатый кокс и мезофазный пек; вертикальная конструкция печи облегчает наблюдение за процессами высокотемпературных фазовых превращений материала.
Характеристики оборудования:
1. Серия CX-GF-/-VT представляет собой вертикальную конструкцию цилиндрической формы с верхней выгрузкой материала, обеспечивающую более высокую эффективность нагрева.
2. Способ нагрева: индукционный нагрев.
3. Рабочая температура: от комнатной до 3000°C.
4. Возможность индивидуального проектирования конструкции печи и комплектации в соответствии с требованиями к производительности, включая использование единой системы управления для работы с несколькими печными модулями, что повышает коэффициент использования оборудования.
Комплектные вспомогательные системы оборудования включают: вакуумную систему, систему очистки, систему охлаждения, систему очистки отходящих газов, централизованную систему управления DCS.
Технические параметры
| модели | CX-GF20/30VT | CX-GF30/40VT | CX-GF40/100VT | CX-GF50/100VT | CX-GF60/100VT | CX-GF60/160VT |
| Максимальная рабочая температура | 3000°C | |||||
| Полезная площадь (мм) Диам.* L | Φ200×300 | Φ300×400 | Φ400×1000 | Φ500×1000 | Φ600×1000 | Φ600×1600 |
| Максимальный объем (л) | 10 | 28 | 125 | 196 | 282 | 452 |
| Равномерность температуры
(ΔT от 1000°C до 2200°C) |
±10°C | |||||
| Максимальная скорость повышения температуры (CEDRT)* | 15°C/мин (RT~1500°C), 10°C/мин (1500°C~2500°C), 5°C/мин (2500°C~3000°C) | |||||
| Мощность нагрева | 100 кВт | 160 кВт | 200 кВт | 250 кВт | 300 кВт | 350 кВт |
| частота | 2000 Гц | 2000 Гц | 2000 Гц | 1500 Гц | 1500 Гц | 1500 Гц |
| Предельный вакуум (CEDRT)* | 1.2×10-3 мбар | |||||
| Дополнительный высокий вакуум (CEDRT)* | 5×10-5 мбар | |||||
| повышение давления | 6.7×10-3 мбар/ч | |||||
| рабочая атмосфера | Высокий вакуум (опция) / Вакуум / Инертный газ (аргон или азот)
Вакуумные и высоковакуумные атмосферы допускаются только при температуре ниже 2200°C. |
|||||
| электроснабжение | 3P, 380В, 50Гц/60Гц | |||||
| Давление охлаждающей воды | 1.5～2.5 бар | |||||
| Температура охлаждающей воды | ≤28 °C | |||||
связаться с нами
Сопутствующие популярные продукты
ПОД графитизационная печь
ПОД графитизационная печь обеспечивает ключевые условия для процесса графитизации — сверхвысокую температуру (2500–3000°C) и инертную атмосферу (преимущественно аргон).
Печь для спекания полупроводниковой керамики
Печь для спекания полупроводниковой керамики – это ключевое оборудование для спекания полупроводниковых керамических материалов. Путем точного управления такими параметрами, как температура и атмосфера, она обеспечивает уплотнение керамических заготовок для достижения требуемых физических и химических свойств.
Водяное охлаждающее оборудование
Градирня с замкнутым контуром (также известная как градирня с замкнутым контуром или испарительный воздухоохладитель) — это высокоэффективное устройство косвенного охлаждения.
Графитизационная печь для углеродного волокна
Графитизационная печь для углеродного волокна — это специализированное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации углеродного волокна.
Печь для спекания керамических подложек
Печь для спекания керамических подложек — это высокоточное оборудование для термообработки, специально разработанное для электронных керамических подложек, таких как оксид алюминия (Al₂O₃), нитрид алюминия (AlN), карбид кремния (SiC) и нитрид кремния (Si₃N₄).
Лабораторная печь для спекания
Экспериментальные печи для спекания — это высокотемпературные устройства для термообработки, специально разработанные для исследований в области материаловедения, разработки технологических процессов и подготовки образцов в небольших партиях.
Графитизационная печь для сажи
Графитизационная печь для сажи — это специализированное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации технического углерода, основная цель которого заключается в преобразовании аморфной сажи в графитизированный технический углерод с определённой кристаллической структурой графита.
CVD печь для подложек из карбида кремния
Печь для CVD-осаждения на подложках из карбида кремния — это высокотехнологичное термическое оборудование, специально разработанное для гомоэпитаксиального выращивания полупроводниковых подложек SiC третьего поколения.
ПОД печь для карбонизации
Печь для карбонизации POD — это высокотемпературное устройство для термообработки, специально разработанное для карбонизации теплопроводящих пленок.
Печь для беспрессового спекания
Печь для спекания без давления — это устройство для термообработки, которое уплотняет заготовки из порошков керамики, металла и композитных материалов при нормальном атмосферном давлении путем точного контроля температурного профиля и атмосферных условий.
Лабораторная пиролизная печь
Лабораторная пиролизная печь — это специализированное оборудование, используемое для мелкомасштабных/пилотных экспериментов по пиролизу.
Графитизационная печь для графена
Графитизационная печь для графена — это специализированное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации прекурсоров графена (таких как оксид графена, аморфные углеродные плёнки и т.д.) с целью улучшения степени их кристалличности, электропроводности и теплопроводности.
Печь для силицирования карбида кремния
Печь для силикования карбида кремния — это высокотехнологичное термическое оборудование, специально разработанное для получения и модификации материалов из карбида кремния (SiC).
Печь для спекания магнитных материалов
Печи для спекания магнитных материалов — это специализированное высокотемпературное оборудование, предназначенное для постоянных магнитов (таких как NdFeB, феррит и самарий-кобальт) и мягких магнитных материалов (таких как ферросилиций-алюминий и пермаллой).
ПИ печь для карбонизации
Печь для карбонизации ПИ — это специализированное термическое оборудование для высокотемпературной обработки полиимидных (ПИ) пленок методом карбонизации.
Графитизационная печь для анодного материала литиевых батарей
Основное назначение графитизационной печи для анодного материала литиевых батарей заключается в высокотемпературной обработке искусственного графитового анодного материала с целью проведения процесса графитизации, что позволяет повысить степень его кристалличности, чистоту и электропроводность для соответствия требованиям к характеристикам литий-ионных аккумуляторов.