Продукция
Печь для спекания керамических подложек
Печь для спекания керамических подложек — это высокоточное оборудование для термообработки, специально разработанное для электронных керамических подложек, таких как оксид алюминия (Al₂O₃), нитрид алюминия (AlN), карбид кремния (SiC) и нитрид кремния (Si₃N₄).
Описание
маркер
Применение:
Печь для спекания керамических подложек — это высокоточное оборудование для термообработки, специально разработанное для электронных керамических подложек, таких как оксид алюминия (Al₂O₃), нитрид алюминия (AlN), карбид кремния (SiC) и нитрид кремния (Si₃N₄). Благодаря точному контролю температурного профиля, атмосферы и параметров давления, она оптимизирует плотность, плоскостность и теплопроводность порошка подложки. Это ключевое оборудование для производства подложек для высоковольтной электронной упаковки и полупроводниковых теплоотводящих подложек.
Технические характеристики:
1. Рабочая температура: 2400℃
2. Использует цифровую программируемую интеллектуальную систему управления температурой, автоматически и с высокой точностью выполняющую процесс измерения и контроля температуры. Система может нагреваться в соответствии с заданной кривой нагрева и может хранить двадцать различных кривых нагрева, всего 400 сегментов.
3. Использует систему охлаждения чистой водой; цифровую систему контроля потока; Используется высокопроизводительный среднечастотный контактор для автоматического переключения печей; а также комплексная система автоматического управления и защиты от воды, электричества и газа на базе ПЛК.
Типичные области применения:
- Силовая электроника: Подложки из оксида алюминия используются в модулях IGBT и преобразователях частоты; подложки из нитрида алюминия используются в мощных светодиодах и лазерных диодах; подложки из карбида кремния используются в полупроводниковых силовых устройствах третьего поколения, отвечающих требованиям высокой теплопроводности и высокой изоляции.
- Полупроводниковая промышленность: Подложки из нитрида кремния используются в держателях пластин и полупроводниковых тестовых приспособлениях; подложки из карбида кремния используются в корпусировании радиочастотных устройств, обладая высокой термостойкостью и радиационной стойкостью.
- Новая энергетика: Керамические подложки используются в контроллерах двигателей электромобилей и силовых модулях зарядных устройств; спекание керамических электролитных подложек для твердотельных батарей повышает безопасность и плотность энергии батарей.
- Индустрия связи 5G: Керамические подложки с низкой диэлектрической проницаемостью используются в фильтрах базовых станций 5G и корпусах антенн, что снижает потери сигнала и повышает эффективность связи.
Технические параметры:
| Модель | CX-SCSF300V | CX-SCSF800V | CX-SCSF1200V | CX-SCSF1500V | CX-SCSF1600V | CX-SCSF2000V |
| Рабочая температура | 2400°C | |||||
| Размеры (мм) | Φ200×300 | Φ400×800 | Φ500×1200 | Φ600×1500 | Φ600×1600 | Φ600×2000 |
| Максимальный объем (л) | 9 | 100 | 235 | 452 | 452 | 565 |
| Равномерность температуры | ±10°C | |||||
| (ΔT 1000°C - 2400°C) | 15°C/min | |||||
| Максимальное повышение температуры | 70 KW | 120 KW | 200 KW | 260 KW | 300 KW | 500 KW |
| Мощность нагрева | 4000 Hz | 2500 Hz | 1500 Hz | 1000 Hz | 1000 Hz | 900 Hz |
| Частота | IGBT или SCR (на выбор заказчика) | |||||
| Метод управления | 0,2 мбар | |||||
| Максимальный вакуум | 5×10⁻⁵ мбар | |||||
| Дополнительный вакуум (CEDRT)* | 0,01 мбар/час | |||||
| Карта повышения давления в автономном режиме | Высокий вакуум (опционально)/Вакуум/Инертный газ (Ar или N₂) | |||||
| Рабочая атмосфера | 1,5 бар (абсолютное давление) | |||||
| Давление охлаждающего газа | 3P, 380 В, 50 Гц/60 Гц | |||||
| Источник питания | 1–2 бар | |||||
| Давление охлаждающей воды | ≤28 °C | |||||
| Модель | CX-SCSF300HC | CX-SCSF400HC | CX-SCSF500HC | CX-SCSF600HC | CX-SCSF700HC | CX-SCSF900HC |
| Рабочая температура | 2400°C | |||||
| Размеры (мм) | 300×300×600 | 400×400×800 | 500×500×1200 | 600×600×1500 | 700×700×1600 | 900×900×2000 |
| Максимальный объем (л) | 54 | 128 | 300 | 540 | 784 | 1620 |
| Равномерность температуры | ±10°C | |||||
| (ΔT 1000°C - 2400°C) | 15°C/min | |||||
| Максимальное повышение температуры | 70 KW | 120 KW | 200 KW | 260 KW | 300 KW | 500 KW |
| Мощность нагрева | 4000 Hz | 2500 Hz | 1500 Hz | 1000 Hz | 1000 Hz | 900 Hz |
| Частота | IGBT или SCR (на выбор заказчика) | |||||
| Метод управления | 0,2 мбар | |||||
| Максимальный вакуум | 5×10⁻⁵ мбар | |||||
| Дополнительный вакуум (CEDRT)* | 0,01 мбар/час | |||||
| Карта повышения давления в автономном режиме | Высокий вакуум (опционально)/Вакуум/Инертный газ (Ar или N₂) | |||||
| Рабочая атмосфера | 1,5 бар (абсолютное давление) | |||||
| Давление охлаждающего газа | 3P, 380 В, 50 Гц/60 Гц | |||||
| Источник питания | 1–2 бар | |||||
| Давление охлаждающей воды | ≤28 °C | |||||
связаться с нами
Сопутствующие популярные продукты
Непрерывная графитизационная печь
Непрерывная графитизационная печь представляет собой ключевой тип лабораторного высокотемпературного графитизационного оборудования, адаптированного для исследований непрерывных технологических процессов.
Печь для дебондинга и спекания карбидов
Печь для спекания с удалением связующего вещества из карбидов — это специализированное высокотемпературное оборудование для удаления связующих фаз, проведения высокотемпературного спекания и уплотнения при формовании порошков/заготовок из карбидов, таких как карбид вольфрама (WC), карбид титана (TiC), карбид тантала (TaC) и карбид хрома (Cr₃C₂).
Лабораторная печь для спекания
Экспериментальные печи для спекания — это высокотемпературные устройства для термообработки, специально разработанные для исследований в области материаловедения, разработки технологических процессов и подготовки образцов в небольших партиях.
Водяное охлаждающее оборудование
Градирня с замкнутым контуром (также известная как градирня с замкнутым контуром или испарительный воздухоохладитель) — это высокоэффективное устройство косвенного охлаждения.
Графитизационная печь для анодного материала литиевых батарей
Основное назначение графитизационной печи для анодного материала литиевых батарей заключается в высокотемпературной обработке искусственного графитового анодного материала с целью проведения процесса графитизации, что позволяет повысить степень его кристалличности, чистоту и электропроводность для соответствия требованиям к характеристикам литий-ионных аккумуляторов.
Графеновая печь для карбонизации
Печь для карбонизации графена — это специализированное термическое оборудование, используемое для высокотемпературной обработки графена с целью рекомбинации углеродной структуры.
Печь для спекания прецизионной керамики
Высокоточные печи для спекания керамики являются ключевым оборудованием для спекания полупроводниковых керамических материалов. Благодаря точному контролю таких параметров, как температура и атмосфера, они обеспечивают уплотнение керамических заготовок, получая желаемые физические и химические свойства.
Печь для спекания со среднечастотным индукционным нагревом
Индукционные печи для спекания средней частоты используют принцип среднечастотного электромагнитного индукционного нагрева. Переменное магнитное поле генерирует вихревые токи внутри заготовки, преобразуя их в тепловую энергию.
Оборудование для очистки отходящих газов
Установки очистки газа и установки обработки отходящих газов являются ключевым оборудованием в промышленных газовых системах, обеспечивающим качество газа и экологически безопасные выбросы.
Печь для спекания полупроводниковой керамики
Печь для спекания полупроводниковой керамики – это ключевое оборудование для спекания полупроводниковых керамических материалов. Путем точного управления такими параметрами, как температура и атмосфера, она обеспечивает уплотнение керамических заготовок для достижения требуемых физических и химических свойств.
Лабораторная пиролизная печь
Лабораторная пиролизная печь — это специализированное оборудование, используемое для мелкомасштабных/пилотных экспериментов по пиролизу.
Печь для инфильтрации углерод-керамических композитов
Подходит для высокотемпературной плавки и инфильтрации композитных материалов C/C, керамических композитных материалов C/SIC, пиролитических углеродных покрытий, покрытий SiC, композитных материалов SiC/SIC и сверхвысокотемпературных композитных материалов на основе керамики.
Печь для спекания нитрида алюминия
Печь для спекания нитрида кремния — это высокотемпературное оборудование для спекания, специально разработанное для керамики из нитрида кремния (Si₃N₄).
Графитизационная печь для композитных материалов C/C
Графитизационная печь для композитных материалов C/C представляет собой специализированное сверхвысокотемпературное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации композитных материалов на основе углеродного волокна, усиленного углеродной матрицей.
Графитизационная печь для углеродного волокна
Графитизационная печь для углеродного волокна — это специализированное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации углеродного волокна.
Печь для беспрессового спекания
Печь для спекания без давления — это устройство для термообработки, которое уплотняет заготовки из порошков керамики, металла и композитных материалов при нормальном атмосферном давлении путем точного контроля температурного профиля и атмосферных условий.