Продукция
Печь для спекания полупроводниковой керамики
Печь для спекания полупроводниковой керамики – это ключевое оборудование для спекания полупроводниковых керамических материалов. Путем точного управления такими параметрами, как температура и атмосфера, она обеспечивает уплотнение керамических заготовок для достижения требуемых физических и химических свойств.
Описание
маркер
Назначение:
Печь для спекания полупроводниковой керамики – это ключевое оборудование для спекания полупроводниковых керамических материалов. Путем точного управления такими параметрами, как температура и атмосфера, она обеспечивает уплотнение керамических заготовок для достижения требуемых физических и химических свойств.
Принцип работы:
В печи для спекания полупроводниковой керамики высокие температуры генерируются нагревательными элементами. При прохождении электрического тока через нагревательные элементы возникает джоулево тепло, которое передается образцу посредством излучения и теплопроводности, повышая его температуру до уровня, необходимого для спекания. После выдержки в течение заданного времени температура снижается по запрограммированной кривой, завершая процесс уплотнения. Одновременно с этим система атмосферы/вакуума регулирует условия внутри печи, удовлетворяя требованиям спекания различных полупроводниковых керамических материалов.
Области применения:
Печь для спекания полупроводниковой керамики широко применяется в таких областях, как электронная керамика и оксидные мишени.
Например, в области электронной керамики она может использоваться для высокотемпературного спекания керамических заготовок (таких как оксид алюминия, нитрид алюминия) для формирования высокопрочных керамических компонентов. В области оксидных мишеней она позволяет, в защитной атмосфере водорода, предотвращать окисление мишеней при высоких температурах, повышая их плотность и эффективность спекания.
Особенности:
1. Рабочая температура: 2400 °C.
2. Используется цифровая программируемая интеллектуальная система контроля температуры, которая автоматически и с высокой точностью выполняет процессы измерения и регулирования температуры. Система может нагреваться по заданной температурной кривой и сохранять до двадцати различных технологических кривых нагрева, в сумме состоящих из 400 сегментов.
3. Применяется система охлаждения чистой водой; цифровая система мониторинга расхода; для автоматического переключения печи используются высокопроизводительные контакторы средней частоты; комплексная система автоматического управления и защиты PLC для воды, электричества и газа.
Технические параметры:
| Модель | CX-SCSF300V | CX-SCSF800V | CX-SCSF1200V | CX-SCSF1500V | CX-SCSF1600V | CX-SCSF2000V |
| Рабочая температура | 2400°C | |||||
| Размеры (мм) | Φ200×300 | Φ400×800 | Φ500×1200 | Φ600×1500 | Φ600×1600 | Φ600×2000 |
| Максимальный объем (л) | 9 | 100 | 235 | 452 | 452 | 565 |
| Равномерность температуры | ±10°C | |||||
| (ΔT 1000°C - 2400°C) | 15°C/мин | |||||
| Максимальное повышение температуры | 70 KW | 120 KW | 200 KW | 260 KW | 300 KW | 500 KW |
| Мощность нагрева | 4000 Hz | 2500 Hz | 1500 Hz | 1000 Hz | 1000 Hz | 900 Hz |
| Частота | IGBT или SCR (на выбор заказчика) | |||||
| Метод управления | 0,2 мбар | |||||
| Максимальный вакуум | 5×10⁻⁵ мбар | |||||
| Дополнительный вакуум (CEDRT)* | 0,01 мбар/час | |||||
| Карта повышения давления в автономном режиме | Высокий вакуум (опционально)/Вакуум/Инертный газ (Ar или N₂) | |||||
| Рабочая атмосфера | 1,5 бар (абсолютное давление) | |||||
| Давление охлаждающего газа | 3P, 380 В, 50 Гц/60 Гц | |||||
| Источник питания | 1–2 бар | |||||
| Давление охлаждающей воды | ≤28 °C | |||||
| Модель | CX-SCSF300HC | CX-SCSF400HC | CX-SCSF500HC | CX-SCSF600HC | CX-SCSF700HC | CX-SCSF900HC |
| Рабочая температура | 2400°C | |||||
| Размеры (мм) | 300×300×600 | 400×400×800 | 500×500×1200 | 600×600×1500 | 700×700×1600 | 900×900×2000 |
| Максимальный объем (л) | 54 | 128 | 300 | 540 | 784 | 1620 |
| Равномерность температуры | ±10°C | |||||
| (ΔT 1000°C - 2400°C) | 15°C/мин | |||||
| Максимальное повышение температуры | 70 KW | 120 KW | 200 KW | 260 KW | 300 KW | 500 KW |
| Мощность нагрева | 4000 Hz | 2500 Hz | 1500 Hz | 1000 Hz | 1000 Hz | 900 Hz |
| Частота | IGBT или SCR (на выбор заказчика) | |||||
| Метод управления | 0,2 мбар | |||||
| Максимальный вакуум | 5×10⁻⁵ мбар | |||||
| Дополнительный вакуум (CEDRT)* | 0,01 мбар/час | |||||
| Карта повышения давления в автономном режиме | Высокий вакуум (опционально)/Вакуум/Инертный газ (Ar или N₂) | |||||
| Рабочая атмосфера | 1,5 бар (абсолютное давление) | |||||
| Давление охлаждающего газа | 3P, 380 В, 50 Гц/60 Гц | |||||
| Источник питания | 1–2 бар | |||||
| Давление охлаждающей воды | ≤28 °C | |||||
связаться с нами
Сопутствующие популярные продукты
Пиролизная печь с удалением кокса
Печь для удаления кокса и пиролиза — это специализированное оборудование для термообработки, объединяющее высокотемпературный пиролиз и эффективное удаление кокса.
Печь для спекания керамических подложек
Печь для спекания керамических подложек — это высокоточное оборудование для термообработки, специально разработанное для электронных керамических подложек, таких как оксид алюминия (Al₂O₃), нитрид алюминия (AlN), карбид кремния (SiC) и нитрид кремния (Si₃N₄).
Печь для спекания нитрида алюминия
Печь для спекания нитрида кремния — это высокотемпературное оборудование для спекания, специально разработанное для керамики из нитрида кремния (Si₃N₄).
Печь для инфильтрации углерод-керамических композитов
Подходит для высокотемпературной плавки и инфильтрации композитных материалов C/C, керамических композитных материалов C/SIC, пиролитических углеродных покрытий, покрытий SiC, композитных материалов SiC/SIC и сверхвысокотемпературных композитных материалов на основе керамики.
Очиститель аргона
Аргоноочиститель – это специальное газоочистное оборудование для глубокого удаления следовых примесей в подаваемом аргоне.
Графитизационная печь для композитных материалов C/C
Графитизационная печь для композитных материалов C/C представляет собой специализированное сверхвысокотемпературное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации композитных материалов на основе углеродного волокна, усиленного углеродной матрицей.
Графитизационная печь для композитных материалов углерод-керамических
Данная установка является ключевым оборудованием в производстве углерод-керамических композитов. Она предназначена для проведения процесса графитизации углеродных материалов в сверхвысокотемпературном диапазоне (2000–3000°C) в инертной атмосфере или вакууме, что приводит к значительному улучшению электропроводности, теплопроводности, механической прочности и окислительной стойкости материала.
CVD печь для подложек из карбида кремния
Печь для CVD-осаждения на подложках из карбида кремния — это высокотехнологичное термическое оборудование, специально разработанное для гомоэпитаксиального выращивания полупроводниковых подложек SiC третьего поколения.
ПИ печь для карбонизации
Печь для карбонизации ПИ — это специализированное термическое оборудование для высокотемпературной обработки полиимидных (ПИ) пленок методом карбонизации.
Печь для спекания прецизионной керамики
Высокоточные печи для спекания керамики являются ключевым оборудованием для спекания полупроводниковых керамических материалов. Благодаря точному контролю таких параметров, как температура и атмосфера, они обеспечивают уплотнение керамических заготовок, получая желаемые физические и химические свойства.
ПИ графитизационная печь
ПИ графитизационная печь — это специализированное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации полиимидной (ПИ) плёнки.
Графитизационная печь для сажи
Графитизационная печь для сажи — это специализированное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации технического углерода, основная цель которого заключается в преобразовании аморфной сажи в графитизированный технический углерод с определённой кристаллической структурой графита.
Графитизационная печь для графена
Графитизационная печь для графена — это специализированное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации прекурсоров графена (таких как оксид графена, аморфные углеродные плёнки и т.д.) с целью улучшения степени их кристалличности, электропроводности и теплопроводности.
Лабораторная пиролизная печь
Лабораторная пиролизная печь — это специализированное оборудование, используемое для мелкомасштабных/пилотных экспериментов по пиролизу.
ПОД печь для карбонизации
Печь для карбонизации POD — это высокотемпературное устройство для термообработки, специально разработанное для карбонизации теплопроводящих пленок.
Лабораторная печь для спекания
Экспериментальные печи для спекания — это высокотемпературные устройства для термообработки, специально разработанные для исследований в области материаловедения, разработки технологических процессов и подготовки образцов в небольших партиях.