Продукция
CVD печь для подложек из карбида кремния
Печь для CVD-осаждения на подложках из карбида кремния — это высокотехнологичное термическое оборудование, специально разработанное для гомоэпитаксиального выращивания полупроводниковых подложек SiC третьего поколения.
Описание
маркер
Обзор оборудования:
Печь для CVD-осаждения на подложках из карбида кремния — это высокотехнологичное термическое оборудование, специально разработанное для гомоэпитаксиального выращивания полупроводниковых подложек SiC третьего поколения. Ее основная функция — осаждение высококачественных эпитаксиальных слоев SiC (толщиной 1–100 мкм) на поверхности монокристаллических подложек 4H/6H-SiC. Она подходит для таких применений, как силовые устройства (MOSFET, IGBT) и радиочастотные устройства, и обладает ключевыми характеристиками, такими как высокотемпературный точный контроль температуры (1500–1700 ℃), ламинарный воздушный поток и сверхнизкое содержание примесей. Это один из ключевых элементов оборудования в цепочке производства SiC.
Основные области применения:
- Силовые полупроводники: инверторы для электромобилей, фотоэлектрические инверторы, промышленные источники питания (SiC MOSFET/IGBT)
- Радиочастотные устройства: базовые станции 5G, спутниковая связь (SiC HEMT)
- Новые источники энергии: зарядные станции, системы хранения энергии
- Аэрокосмическая отрасль: высоконадежные силовые модули
| Номер модели | CX-CVD50/100HR | CX-CVD60/18HR |
| Расчетная температура | 1200°C | 1200°C |
| Диаметр*Высота (мм) | ⌀500*1000mm | ⌀600*1600 |
| Максимальная грузоподъемность (л) | 196 л | 452л |
| Равномерность температуры (ΔT от 1000°C до 2200°C) | ≤±5°C | ≤±5°C |
| Точность регулирования температуры | ±1°C | ±1°C |
| Измерение температуры | Полный диапазон измерения температуры от комнатной температуры до 1700°C | Полный диапазон измерения температуры от комнатной температуры до 1700°C |
| Максимальный вакуум (CEDRT)* | 1 Па | 1 Па |
| Скорость повышения давления | 2 Па/ч | 2 Па/ч |
| Давление охлаждающей воды | 1,5–2,5 бар | 1,5–2,5 бар |
| Температура охлаждающей воды | ≤28°C | ≤28°C |
связаться с нами
Сопутствующие популярные продукты
Печь для спекания прецизионной керамики
Высокоточные печи для спекания керамики являются ключевым оборудованием для спекания полупроводниковых керамических материалов. Благодаря точному контролю таких параметров, как температура и атмосфера, они обеспечивают уплотнение керамических заготовок, получая желаемые физические и химические свойства.
Непрерывная графитизационная печь
Непрерывная графитизационная печь представляет собой ключевой тип лабораторного высокотемпературного графитизационного оборудования, адаптированного для исследований непрерывных технологических процессов.
Вакуумная пиролизная печь
Вакуумная пиролизная печь — это специализированное устройство, которое преобразует органические материалы (такие как смолы, асфальт, полимеры и т. д.) в углеродные материалы посредством высокотемпературной термообработки в бескислородной или инертной атмосфере.
ПОД графитизационная печь
ПОД графитизационная печь обеспечивает ключевые условия для процесса графитизации — сверхвысокую температуру (2500–3000°C) и инертную атмосферу (преимущественно аргон).
Печь для спекания карбида кремния
Печь для спекания карбида кремния — это высокотемпературное оборудование для спекания, специально разработанное для материалов из карбида кремния.
Графитизационная печь для композитных материалов C/C
Графитизационная печь для композитных материалов C/C представляет собой специализированное сверхвысокотемпературное оборудование, предназначенное для высокотемпературной графитизации композитных материалов на основе углеродного волокна, усиленного углеродной матрицей.
Печь для спекания со среднечастотным индукционным нагревом
Индукционные печи для спекания средней частоты используют принцип среднечастотного электромагнитного индукционного нагрева. Переменное магнитное поле генерирует вихревые токи внутри заготовки, преобразуя их в тепловую энергию.
ПИ печь для карбонизации
Печь для карбонизации ПИ — это специализированное термическое оборудование для высокотемпературной обработки полиимидных (ПИ) пленок методом карбонизации.
Графитизационная печь для анодного материала литиевых батарей
Основное назначение графитизационной печи для анодного материала литиевых батарей заключается в высокотемпературной обработке искусственного графитового анодного материала с целью проведения процесса графитизации, что позволяет повысить степень его кристалличности, чистоту и электропроводность для соответствия требованиям к характеристикам литий-ионных аккумуляторов.
Печь для беспрессового спекания
Печь для спекания без давления — это устройство для термообработки, которое уплотняет заготовки из порошков керамики, металла и композитных материалов при нормальном атмосферном давлении путем точного контроля температурного профиля и атмосферных условий.
Оборудование для очистки отходящих газов
Установки очистки газа и установки обработки отходящих газов являются ключевым оборудованием в промышленных газовых системах, обеспечивающим качество газа и экологически безопасные выбросы.
Вертикальная графитизационная печь
Используется для высокотемпературной графитизации различных порошкообразных углеродных и графитовых материалов; цилиндрическая камера печи особенно подходит для обработки порошковых и рулонных материалов, широко применяется в процессе графитизации полиимидных (ПИ) теплопроводящих графитовых листов.
Сверхвысокотемпературная графитизационная печь
Сверхвысокотемпературная графитизационная печь — это специализированное высокотемпературное оборудование, способное обеспечивать экстремальную температурную среду выше 3000°C.
Печь для спекания полупроводниковой керамики
Печь для спекания полупроводниковой керамики – это ключевое оборудование для спекания полупроводниковых керамических материалов. Путем точного управления такими параметрами, как температура и атмосфера, она обеспечивает уплотнение керамических заготовок для достижения требуемых физических и химических свойств.
Пиролизная печь с удалением кокса
Печь для удаления кокса и пиролиза — это специализированное оборудование для термообработки, объединяющее высокотемпературный пиролиз и эффективное удаление кокса.
Печь для спекания керамических подложек
Печь для спекания керамических подложек — это высокоточное оборудование для термообработки, специально разработанное для электронных керамических подложек, таких как оксид алюминия (Al₂O₃), нитрид алюминия (AlN), карбид кремния (SiC) и нитрид кремния (Si₃N₄).